크리스토프 푸케 CEO, 2030년경 전체 시장 규모 1조 달러 돌파할 것으로 전망해 ASML이 14일(현지시간) AI 메모리칩 시장 성장세로 회사 매출도 수혜를 볼 것이라고 전망했다. 로이터 통신에 따르면, 크리스토프 푸케 ASML 최고경영자(CEO)는 이날 네덜란드 펠트호번에서 열린 'ASML 투자자의 날 2024' 행사에서 내년까지 AI 메모리칩 시장이 연간 9% 성장할 것으로 내다봤다. 이어 2030년께에는 전체 시장 규모가 1조 달러(약 1405조 원)를 넘어설 것으로 예상한다고 말했다. 그는 이같은 성장세로 ASML의 첨단 장비 판매가 늘어나는 데 도움이 될 것이라고 기대했다. 앞서 이날 ASML은 2030년까지 회사 매출이 연간 약 8∼14%씩 증가할 것으로 본다고 발표한 바 있다. ASML은 첨단 반도체 양산에 필수인 극자외선(EUV) 노광장비를 독점 생산한다. 한국의 삼성전자나 대만 TSMC 등 주요 반도체 제조업체가 애플의 스마트폰이나 엔비디아의 AI 가속기에 필요한 최첨단 반도체를 생산하는 데 ASML 장비를 쓴다. 이 회사는 미국, 네덜란드 정부의 대 중국 수출통제 여파 등으로 최근 시장 예상의 절반에도 못 미치는 예약실적을 기록하며 지
3분기 총 순매출 75억 유로, 매출 총 이익률 50.8%, 당기순이익 21억 유로 달성 ASML이 16일인 오늘 2024년 3분기 실적을 발표했다. ASML은 3분기 총 순매출 75억 유로, 매출 총 이익률 50.8%, 당기순이익 21억 유로를 달성했다. 3분기 예약매출은 EUV 14억 유로 포함, 26억 유로를 기록했다. ASML은 오는 4분기 총 순매출을 88억~92억 유로, 매출 총 이익률을 49%~50%로 예상했다. 이어 2024년 총 순매출은 약 280억 유로, 2025년 총 순매출 300억~350억 유로, 매출 총 이익률 51%~53%를 전망했다. 크리스토프 푸케(Christophe Fouquet) ASML CEO가 “ASML의 3분기 총 순매출이 전망치를 상회하는 75억 유로를 기록했으며, DUV와 설치 장비 관리 매출 상승이 이러한 결과를 견인했다. 매출 총 이익률은 50.8%로 전망 범위를 벗어나지 않았다”고 밝혔다. 이어 그는 “AI 분야에서 여전히 강력한 진전세와 상승 잠재력이 지속되는 반면, 다른 시장 부문의 회복에 시간이 더 소요되고 있다. 시장 회복세가 이전 예상보다 점진적이며, 이러한 회복세는 2025년에도 지속돼 고객이 신중한
中 인민일보 "광전자 공학 기술의 몇 안 되는 공백을 메운 성과" 중국이 최근 잇달아 반도체 기술에서 혁신을 이뤘다고 목소리를 내는 가운데, 이번에는 실리콘 포토닉스(광반도체) 개발에서 이정표를 세웠다고 주장했다. 실리콘 포토닉스는 미국의 수출 통제로 중국이 살 수 없는 극자외선(EUV) 노광장비 없이도 만들 수 있다는 점에서 주목된다. 7일 홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)에 따르면, 중국 국영 연구소인 JFS 연구소는 지난주 블로그 글에서 실리콘 기반 반도체에 통합된 레이저 광원을 점광하는 데 성공했으며, 이는 중국 최초라고 밝혔다. 이에 중국 공산당 기관지 인민일보는 지난 4일 "광전자 공학 기술의 몇 안 되는 공백을 메운 성과"라고 평가했다. 실리콘 포토닉스는 반도체인 실리콘 기판 위에 광 집적회로를 제작하는 기술 체계다. 빛을 이용해 데이터를 전송하는 혁신적인 방법으로, 전기적 전송 방식의 한계를 극복하고 더 빠른 데이터 통신을 가능하게 한다. SCMP는 "2021년 중국 정부가 투자해 후베이성 우한에 세운 JFS 연구소는 기술 혁신 임무를 띤 중국 핵심 기관 중 하나"라고 소개했다. 신문은 "세계 반도체 산업 주요 주자들은 데이터와 그래픽 처리
중국이 자국산 반도체 심자외선(DUV) 노광장비 2종이 중요한 기술적 도약을 이뤘다고 주장했다. 15일 홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)에 따르면 중국 공업정보화부는 이번주 발간한 '주요 기술 장비' 신규 목록에서 이같이 밝혔다. 공업정보화부는 이 노광장비들이 "중요한 기술적 도약을 이뤘고 자체 지식재산권을 보유했지만 아직 시장에 나오지는 않았다"고 설명했다. 그러나 해당 장비 2종의 제작사 이름은 공개하지 않았다. 중국이 개발했다는 2종 DUV 노광장비중 하나는 파장 193나노미터에서 작동하며 해상도 65나노 미만, 오버레이 정확도 8나노 미만이다. 다른 하나는 파장 248나노, 해상도 110나노, 오버레이 정확도 25나노다. 이 두 장비 모두 여전히 현재 시장에서 구할 수 있는 최첨단 제품보다는 한참 뒤처져 있다. 일례로 네덜란드 반도체 장비업체 ASML의 최첨단 DUV 노광장비는 해상도 38나노 미만, 오버레이 정확도 1.3나노급이다. 게다가 DUV 노광장비보다 훨씬 짧은 13.5나노 파장을 사용하는 극자외선(EUV) 노광장비도 이미 상용화됐다. 노광은 반도체 기판에 고도로 복잡한 회로 패턴을 새기는 공정이다. 중국은 반도체 자립자족을 위해 수년간
크리스토프 푸케 CEO "이머전 장비 매출 증대가 긍정적인 결과 견인해" ASML이 17일인 오늘 2024년 2분기 실적을 발표했다. ASML은 2분기에 순매출 62억 유로, 매출 총이익률 51.5%, 당기순이익 16억 유로를 달성했다. 2분기 예약매출은 EUV 25억 유로를 포함해 56억 유로를 기록했다. ASML은 오는 3분기 순매출을 67억~73억 유로, 매출총이익률 50%~51%로 예상했다. 지난 4월 취임한 크리스토프 푸케(Christophe Fouquet) ASML CEO는 “ASML의 2024년 2분기 순매출은 전망 범위 상단인 62억 유로를 기록했고, 매출총이익률은 전망치를 웃도는 51.5%였다. 이머전 장비의 매출 증대가 이러한 결과를 견인했다”고 밝혔다. 크리스토프 푸케 CEO는 “지난 여러 분기와 마찬가지로 전반적인 반도체 재고 수준이 지속해서 개선되고 있다. ASML은 로직과 메모리 고객사 모두에서 리소그래피 툴 활용 수준이 추가적으로 상승할 것으로 본다. 거시 환경으로 인한 시장 불확실성이 여전하지만, 올해 하반기에도 업계 회복이 계속될 것으로 예상한다”고 덧붙였다. 이어 그는 “ASML은 2024년 3분기 순매출 67억~73억 유로,
TSMC가 ASML가 생산한 3억5000만 유로(약 5220억 원)에 달하는 차세대 극자외선(EUV) 장비를 구매한 것으로 알려졌다. 7일 연합보 등 대만언론은 소식통을 인용해 TSMC가 최첨단공정을 통한 반도체 생산을 위해 관련 장비 구매에 나섰다면서 이같이 보도했다. 해당 소식통은 로저 다센 ASML 최고재무책임자(CFO)가 최근 콘퍼런스콜에서 TSMC와 인텔이 올해 연말까지 차세대 EUV 노광장비인 '하이(High) 뉴메리컬어퍼처(NA) EUV'를 인도할 것이라고 밝혔다고 언급했다. 대만언론은 TSMC가 남부 가오슝 지역 2㎚ 공장에서 하이 NA EUV 장비를 이용해 2025년부터 후면전력공급이 가능한 N2P 제품을 생산할 예정이라고 전했다. 인텔은 지난 4월 미국 오리건주 연구개발(R&D) 센터에 차세대 EUV 장비를 설치했다고 밝힌 바 있다. 파운드리 업체 중 하이 NA EUV 장비를 도입한 것은 처음으로 알려졌다. 하이 NA EUV는 반도체 회로를 더 세밀하게 그릴 수 있는 ASML 차세대 장비로 AI 응용프로그램과 첨단 소비재 전자제품용 칩 제조에 쓰인다. 해당 장비의 중량이 150t으로 에어버스 A320 여객기 2대와 같은 무게인 것으로
차세대 프로세서 해상도와 기능 확장 획기적으로 개선하는 기능 갖춰 인텔 파운드리는 미국 오리건주 힐스보로 R&D 구역에 위치한 업계 최초 상업용 ‘고개구율(High Numerical Aperture, High NA) 극자외선(EUV)’ 노광장비 조립을 완료하며 첨단 반도체 제조 분야에서 중요한 이정표를 달성했다. ASML 제품인 인텔의 하이 NA EUV 장비 ‘트윈스캔 EXE:5000’은 인텔의 첨단 공정 로드맵 개발에 사용될 준비를 위해 여러 조정 단계를 진행 중이다. 이 신규 장비는 인쇄된 이미지를 실리콘 웨이퍼에 투사하기 위한 광학 설계 변경을 통해 차세대 프로세서의 해상도와 기능 확장을 획기적으로 개선하는 기능을 갖추고 있다. 마크 필립스(Mark Phillips) 인텔 펠로우 겸 인텔 파운드리 로직 기술 개발 부문 노광, 하드웨어 및 솔루션 담당 디렉터는 “하이 NA EUV 추가로, 인텔은 다방면의 노광 장비를 보유하게 됐으며, 2025년 이후 인텔 18A를 넘어 미래 공정을 추진할 역량을 갖추게 됐다”고 밝혔다. 하이 NA EUV 장비는 첨단 칩 개발과 인텔 18A 이후 차세대 프로세서 생산에서 핵심적인 역할을 할 예정이다. 업계 최초로 하
ASML "향후 中의 세계시장 점유율은 늘어나고 자급률도 현재보다 높아질 것" 미국의 대중국 반도체 규제 강화에도 불구하고 네덜란드 반도체 장비 기업 ASML의 1분기 전체 매출에서 중국 비중이 절반에 가깝고, 한국·대만·미국 매출을 합한 것보다 많은 것으로 나타났다. 17일(현지시간) 블룸버그통신에 따르면, 반도체 업계에서 '슈퍼 을'로 통하는 ASML의 1분기 매출을 지역별로 보면 중국이 49%를 기록, 한국(19%)·대만(6%)·미국(6%)의 매출 합계인 31%보다 많았다. 지난해 4분기 매출의 지역별 비중은 중국(39%)·한국(25%)·대만(13%)·미국(11%) 순이었는데, 중국의 매출 비중이 증가한 반면 나머지 지역은 감소한 것이다. 1분기 지역별 매출액 규모를 보면 중국은 전 분기 대비 3억 유로 감소한 19억 유로로 견조한 흐름이었다. 반면 한국은 6억여 유로 줄어든 7억5350만 유로, 대만은 5억여 유로 감소한 2억3800만 유로, 미국은 3억8000여만 유로 줄어든 2억3800만 유로였다. 스마트폰·컴퓨터 수요 부진 속에 대만 TSMC와 한국 삼성전자 등 중국 이외 지역 회사들이 첨단 장비 구입을 미루는 가운데 이러한 실적이 나왔다고 블룸
반도체 제조업체의 첨단 장비 지출 회복세 타고 긍정적 전망 내놔 인공지능(AI) 기반 반도체에 대한 수요 증가 전망이 나오는 가운데 ASML의 주가가 유럽증시에서 시가총액 3위 자리에 올랐다고 블룸버그통신이 22일(현지시간) 보도했다. 이날 유럽증시에서 ASML 주가는 전 거래일 종가보다 3% 올라 2년 만에 최고치를 기록하며 시가총액에서 식품업체 네슬레를 제쳤다. ASML의 시총은 3060억 달러(409조 원)로, 네슬레의 시총은 3010억 달러로 평가됐다. 이로써 ASML은 덴마크의 제약사 노보 노디스크와 루이비통모에헤네시(LVHM)에 이어 유럽 증시 시총 3위 자리에 올랐다. 블룸버그는 ASML의 주가 상승이 반도체 제조업체들의 첨단 장비에 대한 지출이 회복돼 이 회사가 내년에 "큰 성장을 보일 것"이라고 전망함에 따라 이뤄졌다고 분석했다. 앞서 ASML의 고객사이자 세계 최대 파운드리 반도체 제조업체인 대만의 TSMC는 올해 매출이 작년에 비해 20% 이상 늘어날 것이라는 전망치를 발표했다. 투자회사 번스타인의 애널리스트 사라 루소와 크리스 엘리아스는 ASML 주가가 동종업체보다 "매력적"이라며 투자 등급을 상향 조정했다고 밝혔다. 투자은행 모건스탠리
자이스 코리아가 오는 31일부터 2월 2일까지 서울 코엑스에서 열리는 '세미콘 코리아 2024'에 참가한다고 밝혔다. 자이스 코리아는 이번 행사에서 기술 심포지엄 및 부스 참가를 통해 자이스 광학 기술력부터 반도체 주요 공정에 활용되는 다양한 장비와 솔루션을 선보일 예정이다. 글로벌 반도체 산업 전시회인 세미콘 코리아는 매년 반도체 산업의 성장과 최신 반도체 제조 기술 등을 확인할 수 있는 자리다. 올해 행사는 'Innovation Beyond Boundaries'라는 주제로 전시 뿐 아니라 글로벌 반도체 전문가가 연사로 참여하는 기술 심포지엄 등 다양한 부대행사도 개최된다. 자이스 그룹에서는 본사 기술 로드맵 시니어 디렉터인 하이코 펠트만 박사가 연사로 참석해 'EUV optics at ZEISS'를 주제로 자이스의 광학 기술력이 어떻게 EUV의 생산성 및 해상도 향상에 기여하는지 소개한다. 해당 발표에서는 0.33 NA(Numerical Aperture: 개구수)의 1세대 EUV 광학 시스템과 처음으로 ASML에 전달된 아나모픽 배율을 활용해 0.55 NA를 실현한 광학 모듈에 대한 내용을 공유할 예정이다. 자이스 그룹은 설립자인 칼 자이스의 현미경부터
ASML이 최첨단 반도체 양산에 필요한 하이NA 극자외선(EUV) 노광장비 첫 제품을 인텔에 공급했다. 삼성전자와 TSMC 등 세계 주요 반도체 업체들이 ASML의 첨단 장비를 공급받기 위해 기다리는 상황이다. 블룸버그통신은 22일(현지시간) ASML이 최신 반도체 제조 장비의 첫 주요 부품을 미국 오리건주에 있는 인텔의 D1X 공장으로 배송했다고 익명의 소식통을 인용해 보도했다. 인텔과 ASML 측은 이 장비가 최종 어디로 향하는지 밝히지 않았다. 팻 겔싱어 인텔 최고경영자(CEO)는 자사가 이 첨단 장비를 가장 먼저 도입할 것이라고 밝히며 반도체 제조 분야에서 선두로 복귀하겠다는 의지를 드러낸 바 있다. ASML은 반도체 제조업체들이 자사 장비에 계속 의존하도록 하기 위해 계속 신기술을 출시하고 있다. 인텔은 오는 2025년에 이 새 장비를 활용해 반도체를 생산할 계획이다. D 1X 공장은 인텔의 미래 생산 기술을 개발하는 시설이다. ASML은 EUV 노광장비 분야 세계 최고 제조업체다. 삼성전자와 TSMC, 인텔 등이 최첨단 반도체를 만들기 위해서는 ASML의 장비를 써야 한다. ASML은 21일 소셜 미디어 X에 올린 게시물에서 "인텔에 첫 번째 하이
펠리클의 EUV 투과도, EUV 공정에서 초미세 반도체 수율에 지대한 영향 끼쳐 산업통상자원부 국가기술표준원은 15일 중소기업인 '이솔(E-SOL)'이 개발한 반도체 장비 기술이 국제표준으로 제안됐다고 밝혔다. 이솔은 반도체 극자외선(EUV) 공정에 쓰이는 마스크 계측·검사 장비, 마스크 보호 박막(펠리클)의 투과도 검사 장비 등을 제작·판매하는 기업이다. 이솔은 마스크를 보호하는 박막인 펠리클 투과도 검사 장비를 개발하고, 이 장비를 활용한 펠리클의 EUV 투과도 검사 방법을 신규국제 표준안으로 제안했다. 초미세 반도체를 만드는 EUV 공정은 EUV 광원이 미세회로가 그려진 마스크를 통해 웨이퍼에 회로를 새기는 방식이다. 펠리클은 마스크 위에 씌워 미세먼지 등 오염 물질로부터 마스크를 보호하는 박막이다. EUV 공정에서 펠리클의 EUV 투과도는 초미세 반도체 수율에 큰 영향을 미친다. 헬로티 서재창 기자 |
경계현 사장 "삼성이 하이 NA EUV를 잘 쓰는 협력관계가 중요" 이재용 삼성전자 회장이 15일 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문 동행을 마치고 15일 오전 서울 김포공항 비즈니스센터를 통해 귀국했다. 회색 목도리를 두르고 나온 이 회장은 이번 순방 성과에 대한 취재진의 질문에 "반도체가 거의 90%였다"며 미소를 지었다. 밝은 표정의 이 회장은 함께 귀국한 경계현 디바이스솔루션(DS)부문장(사장)을 격려하듯 경 사장의 등을 여러 번 두드리기도 했다. 삼성전자와 ASML은 지난 12일(현지시간) 네덜란드 ASML 본사에서 진행된 한-네덜란드 반도체 협력 협약식에서 업무협약(MOU)을 맺고 7억 유로(약 1조 원)를 투자해 차세대 노광장비 개발을 위한 극자외선(EUV) 공동 연구소 설립을 추진하기로 했다. ASML은 최첨단 반도체 양산에 필요한 EUV 노광장비를 세계에서 유일하게 생산하는 기업으로, 반도체 업계에서는 '슈퍼 을'로 불린다. 경 사장은 "이제 삼성이 '하이 뉴메리컬어퍼처(NA) EUV'에 대한 기술적인 우선권을 갖게 됐다"며 "장기적으로 D램이나 로직에서 하이 NA EUV를 잘 쓸 수 있는 계기를 만들지 않았나 생각한다"고 말했다. ASML이
DUV 노광장비 중국 수출 승인 요구조건에 대한 새 규정 발표할 예정 미국과 네덜란드가 중국에 대한 추가적인 반도체 장비 수출 제한 조치를 발표할 것이라고 로이터 통신이 29일(현지시간) 보도했다. 로이터는 네덜란드 정부가 30일 자국의 반도체 노광장비 제조업체인 ASML이 생산하는 심자외선(DUV) 노광장비 중국 수출 승인 요구조건에 대한 새로운 규정을 발표할 예정이라고 전했다. 네덜란드 정부가 새로운 규제를 즉각 시행하지 않고 9월쯤부터 적용할 가능성이 있다고 덧붙였다. 네덜란드 정부는 2019년부터 ASML의 최첨단 극자외선(EUV) 노광장비의 중국 수출을 금지했으며 지난 3월에는 그동안 수출을 허용했던 DUV 노광장비에 대한 수출 규제도 예고한 바 있다. 당시 ASML은 네덜란드 정부 규제로 DUV 노광장비 중 신형 제품이 영향을 받을 것으로 예상했다. 그러나 ASML의 DUV 노광장비 가운데 구형 제품도 미국의 수출 통제 강화로 중국 수출길이 막힐 것으로 보인다고 로이터는 전했다. 지난해 10월 중국에 대한 첨단 반도체와 장비 수출 통제를 발표한 미국 정부가 6개 중국 시설에 대한 반도체 장비 수출 시 사전 승인을 받도록 하는 새로운 규정을 준비하고
CS 엔지니어 위한 심화 교육과 역량 강화 목적으로 설립돼 ASML의 한국 지사인 ASML 코리아가 지난 16일 경기도 용인시에 위치한 서플러스글로벌 반도체 장비 클러스터에 EUV 라이브 모듈을 갖춘 글로벌 트레이닝 센터를 개소했다. CS 엔지니어 대상으로 한 EUV 장비 심화 트레이닝 과정인 Fab ready2 등 기술 교육 프로그램을 제공한다 이번 개소식에는 ASML 코리아의 이우경 대표와 리차드 래머스(Richard Lammers) 한국∙일본 고객지원 필드운영 총괄, 랄프 한젠(Ralph Hanzen) 글로벌 트레이닝 센터 시니어 프로젝트 매니저, 김남윤 글로벌 트레이닝 센터 코리아 매니저 등 주요 임원진을 비롯해 서플러스글로벌의 김정웅 대표 및 업계 관계자들이 참석했다. ASML 글로벌 트레이닝 센터 중 하나인 이번 신규 트레이닝 센터는 EUV 장비 교육에 특화된 곳이며, ASML의 EUV 장비 설치, 업그레이드 및 유지보수를 담당하는 ‘CS 엔지니어’를 위한 심화 교육과 역량 강화 목적으로 설립됐다. 해당 센터는 약 1445㎡ 규모에 클린룸, 클래스룸, 오피스 및 기타 편의 시설을 갖추고 있다. ASML 코리아의 김남윤 글로벌 트레이닝 센터 매니저는
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UPDATE: 2024년 11월 22일 17시 59분
