라이브러리 글로벌 기업 반도체 장비 확보 경쟁 치열

네덜란드 ASML이 1년에 50대 안팎만 생산…한대에 2천~3천억원 반도체 첨단 공정에 필수…삼성·TSMC·인텔, 선점 경쟁 글로벌 반도체 업계가 네덜란드산 극자외선(EUV) 노광 장비를 확보하기 위해 치열한 경쟁을 펼치고 있다. 반도체 장비 확보가 곧 생산능력 확대라는 인식 아래 그룹 총수까지 나서서 장비 선점에 사활을 걸고 있는 것이다. 삼성전자 이재용 부회장은 7일 장비 수급 문제 등을 논의하기 위해 EUV 노광 장비 생산지인 네덜란드로 떠났다. 앞서 올해 초 인텔은 2025년부터 적용할 인텔 1.8나노 공정을 위해 네덜란드 ASML의 차세대 EUV 노광장비 '하이 뉴메리컬어퍼처(High NA) EUV' 도입 계약을 체결했다고 발표했다. 당시 TSMC와 삼성전자보다 앞서 인텔이 가장 먼저 최신 장비를 확보해 시장을 놀라게 했다. EUV 노광 장비는 말 그대로 EUV 노광 기술을 구현하는 장비다. 반도체의 원재료는 지름 30㎝의 실리콘 원판 '웨이퍼'로, 노광은 사진을 찍으면 필름에 상이 옮겨지듯이 웨이퍼에 자외선을 쏴 회로를 그리는 작업을 말한다. 회로를 얇게 그릴수록 웨이퍼 한 장에서 나오는 반도체 수가 늘어난다. EUV 노광 기술은 짧은 파장의 극자

• 김진희 기자
• 2022-06-08 08:58