HMI 서버 관리 성능 강화, 사용자 친화적 기능 추가, 개발 자원 간소화 등 이점 선보여 포스코DX가 설비 제어시스템 ‘PosMaster-HMI’ 윈도우(Windows) 버전을 론칭했다. PosMaster-HMI는 산업 현장 내 각종 장비의 작동 상태를 화면에 도출하고, 관련한 의사결정을 지원하는 포스코 DX 자체 개발 솔루션이다. 설비 제어를 관장하는 PLC(Programmable Logic Controller)와 이 PLC의 작동 상태를 모니터링 하고, 작업자가 직접 설비를 제어하도록 돕는다. 포스코DX가 독자적으로 개발해 현장에 적용해오고 있다. 이번 업데이트를 통해 기존 리눅스(Linux)에서 지원 운영체제(OS)를 확장해 윈도우용으로 개발됐다. 핵심 기능은 작업자가 제어할 설비를 직접 선택해 제어 화면을 구성하고, 로직을 추가해 시스템을 운영할 수 있도록 개선한 부분이다. 아울러 HMI 서버 정보 관리 성능을 기존 5,000개의 태그(Tag)에서 65,000개로 강화하고, 이기종 데이터 베이스에 접근해 사용자가 직접 프로그래밍하는 기능도 추가했다. 또 사용자가 모터 On/Off, 온도 초과 알람 등을 설정하면, 해당 모터의 발생 위치를 직관적으로
헬로티 조상록 기자 | ACM리서치가 자사 최초의 300mm싱글 웨이퍼 과산화황 혼합물 시스템(Sulfuric Peroxide Mixture system, SPM) 장비를 출시했다. 이 장비는 첨단 로직, DRAM, 3D-NAND 칩, 기타 집적 회로 제조의 습식 세정 및 식각(etching) 공정에 널리 사용할 수 있으며 특히 고용량 이온을 활용한 포토레지스트 제거 공정과 금속 식각 및 스트립 공정에 적합하다. 이 제품은 기존 ACM리서치의 SPM 공정 제품을 확장한 것으로 10nm 이하의 첨단 공정에서 고온의 단계를 추가해 더욱 다양하고 세밀한 온도 단계를 지원한다. 이번에 개발한 싱글SPM 장비는 당사의 Ultra C Tahoe 장비를 기반으로 한다. 기존 Ultra C Tahoe 장비는 정상 온도에서 대부분의 SPM 공정단계를 지원하고 있으며, 이번 장비는 거기에 고온 SPM의 공정능력을 추가했다. 오늘날 대부분의 SPM 습식 공정은 145°C 미만의 황산 및 과산화수소를 혼합하며 PR 제거 및 식각 후 세정 공정, 중간 용량의 이온 주입 및 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 후 세정 공정에 널리 사용된다. 2018년에 소
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