금속 이온 누출 0.1ppt 미만으로 금속 검출량이 분석한계치에 근접해
랑세스가 반도체 제조를 위한 초순수 생산용 혼상 이온교환수지 ‘레바티트 울트라퓨어 1296 MD 플러스’를 국내에 본격 선보인다. 랑세스의 신제품인 레바티트 울트라퓨어 1296 MD 플러스는 초순수의 품질이 결정되는 최종 폴리싱 단계를 위해 특별히 개발된 혼상 이온교환수지 솔루션이다.
초순수는 반도체의 웨이퍼, 마이크로칩 등의 생산 과정에서 진행되는 습식 화학공정의 필수 요소로, 최근에는 초정밀 공정이 필수적으로 요구되면서 초순수의 품질요건 또한 엄격해지고 있다. 특히 최종 폴리싱 단계는 초순수의 품질이 결정되는 가장 중요한 정제 과정으로 ppt에서 ppb 범위의 미량 이온도 제거하는 고도의 이온교환수지 시스템이 필요하다.
레바티트 울트라퓨어 1296 MD 플러스는 철, 아연, 나트륨 등과 같은 금속의 함량이 매우 낮은 것이 특징이다. 유도 결합 플라즈마 질량 분석(ICP-MS) 결과, 금속 이온 누출이 0.1ppt 미만으로 관리되는 등 금속 검출량이 분석한계치에 근접할 정도로 낮은 수치를 보였다.
나노미터 범위까지 금속과 입자 배출을 최소화하고, 유기물 배출이 적어 TOC(총유기탄소) 농도가 극히 낮은 것도 장점이다. 여과 과정에서 금속이온, 붕소, 실리카 등의 불순물 제거에 탁월한 효과를 자랑한다. 랑세스코리아 액체정제기술 사업부 김도형 상무는 “레바티트 울트라퓨어 제품군이 한국 반도체 및 디스플레이 산업의 비용 효율성과 지속가능성, 정밀성을 높이는 데 기여할 것”이라고 말했다.
헬로티 서재창 기자 |
