앞으로 반도체 산업 시설에 투자하는 대기업은 투자액의 15%를 세금에서 감면받게 될 전망이다. 추가 투자 증가분에 대한 혜택까지 고려하면 시설 투자 세액공제율은 최대 25%까지 올라간다.
정부는 3일 이런 내용을 담은 반도체 투자 세제 지원 강화 방안을 발표했다.
정부안에 따르면 반도체·배터리·백신·디스플레이 등 국가전략기술의 당기(연간) 시설 투자에 대한 세액공제율이 대기업 기준 현재 8%에서 15%로 올라간다.
공제율을 현재의 2배 가까운 수준으로 올려 세제 혜택을 대폭 확대하겠다는 의미다.
가령 삼성전자가 올해 반도체 생산시설에 1조원을 투자한다면 정부안 기준으로 1500억원에 달하는 세금을 감면받을 수 있게 된다.
이와 별도로 올해 투자 증가분(직전 3년 평균치 대비)에 대해서는 국가전략기술 여부와 상관없이 10%의 추가 공제 혜택이 주어진다. 이 경우 반도체 등 전략 분야에서 신규 사업에 뛰어드는 대기업은 당기분과 증가분을 합쳐 최고 25%의 세액공제를 받을 수 있게 된다.
중소기업의 경우 당기 공제율이 현재 16%에서 25%로 올라간다. 투자 증가분을 포함한 최고 세액공제율은 35%에 달한다.
국가전략기술 연구개발(R&D) 투자의 경우 현행 제도대로 세계 최고 수준인 30∼50% 수준의 공제 혜택을 준다.
정부는 또 2011년 이후 중단됐던 임시투자세액공제를 올해 12년 만에 재도입하기로 했다. 과거 경제 위축기에 활용했던 임시투자세액공제는 투자 업종이나 목적과 상관없이 기업 투자에 일정 수준의 추가 세제 혜택을 주는 제도다.
우선 일반 투자에 대한 세액공제율이 현재 1∼10%에서 3∼12%로 2%포인트(p)씩 일괄 상향된다.
신성장·원천기술의 경우 공제율을 3∼12%에서 6∼18%로 기업 규모에 따라 3∼6%포인트(p)씩 올린다.
올해 신성장·원천기술에 투자하는 대기업은 6%, 중견기업은 10%, 중소기업은 18%씩 공제 혜택을 받을 수 있다는 의미다.
이번 지원 방안은 올해 1월 1일 투자분부터 소급 적용할 수 있도록 입법을 추진한다. 관련 법 개정안은 이달 중으로 마련해 최대한 빨리 통과한다는 목표를 세웠다.
헬로티 이창현 기자 |
