반도체 파티클 제어 전문기업 제덱스가 나노급 초미세 공정에 대응하는 차세대 검사 시스템 ‘M802ESC’를 출시했다. 제덱스는 정전척(ESC), 스퍼터링 타겟, FOUP 등 기존에 정량적 파티클 검사가 어려웠던 공정 핵심 부품까지 분석할 수 있는 장비를 신규 개발했다고 19일 밝혔다. M802ESC는 기존 M2000ESC의 차세대 모델로, 대형·고중량 구조와 높은 표면 정밀도로 인해 기존 방식으로는 평가가 쉽지 않았던 부품을 대상으로 설계됐다. 직경 610mm 이내 시료 대응이 가능하며, 최대 50kg 하중 설계를 적용해 대형 부품 검사 수요를 반영했다. 입자 검출 성능도 강화됐다. 기본적으로 0.1µm 이상 입자 검출이 가능하며, 옵션 적용 시 10nm 센서를 통해 극초미세 파티클까지 계수할 수 있다. X·Y·Z 로봇 제어 기반 스캔 노즐 방식을 채택해 표면의 약 90% 영역을 균일하게 검사한다. 비접촉 방식의 고효율 입자 추출 시스템도 적용했다. 특허 기반 회수 헤드와 입자 확산 방지 구조를 통해 검사 중 2차 오염을 차단했으며, ULPA 필터 기반 Class 1 초청정 환경을 유지해 데이터 신뢰도를 확보했다. 제덱스는 M802ESC 출시로 정전척, 스퍼
[헬로티] 다양한 장치용 부품 계수 실적 기반한 자체 개발 소프트웨어도 탑재 표면입자계수기 전문 제조기업 제덱스가 유기발광다이오드(OLED) 디스플레이 제조용 장치의 부품 재생과 장치용 부품 클리닝 뒤 청정도를 쉽고 빠르게 계수해주는 다용도 입자계수기 ‘SM 시리즈’를 출시했다고 22일 밝혔다. 표면입자계수기는 코팅이나 세정을 마친 부품의 표면에 남아 있는 입자(Particle) 및 이물을 검사하는 장치다. SM 시리즈는 제덱스의 전용 입자 채취 필름을 이용해 기존 표면입자계수기보다 입자 및 이물 계수 등의 오염 제어가 용이하다. 또 다양한 장치용 부품의 계수 실적으로 기반으로 더 쉬운 계수가 가능한 제덱스 자체 개발 소프트웨어가 따로 내장돼 있다. SM 시리즈는 클리닝 용액을 멤브레인 필터로 여과할 때 클리닝 장치의 액체 중 입자를 검출하는 것도 가능하다. 클리닝 공정에 자주 쓰이는 초순수(Ultrapure Water) 등 각종 액중 입자를 관리해 공정의 효율성을 높인다. 제덱스는 기존에 판매 중인 S2 시리즈보다 설치 면적이 작아 가격도 더 저렴하다고 밝혔다. ▲ 제덱스가 유기발광다이오드 디스플레이 제조용 장치의 부품 재생과 장치용
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