일반뉴스 에스티아이, EUV POD CLEANER 장비 수주로 실적 가시화
EUV 노광 장비의 레티클을 보관하는 전용 POD 세정해 에스티아이가 글로벌 반도체 업체로부터 EUV POD CLEANER 장비를 수주했다고 밝혔다. 에스티아이가 수주한 EUV POD CLEANER 장비는 EUV 노광 장비의 레티클(RETICLE)을 보관하는 전용 POD를 세정하는 장비로서, 순수 자체 기술 개발을 통해 품질과 생산성을 혁신적으로 향상시켜 국산화에 성공했다. 에스티아이는 EUV POD에 최적화된 전용 세정 장비를 구현하기 위해 자체 특허 기술을 적용해 장비 성능을 검증 받았으며, 이 기술을 기반으로 타사 대비 경쟁력 있는 양산성을 확보하는 것이 목표다. EUV 공정은 기존의 DUV(심자외선)보다 훨씬 짧은 파장의 빛을 사용해 웨이퍼에 세밀한 회로를 형성한다. 이를 통해 반도체 칩의 크기를 줄이고 집적도를 높여 전력 효율성과 성능을 획기적으로 향상시킨다. 특히 EUV 공정은 차세대 반도체 기술의 핵심으로, 고성능 모바일 기기, 데이터 센터, 인공지능 등 다양한 첨단 산업에서 요구되는 고효율, 고집적 반도체를 구현하는 데 필수적이다. 반도체 파운드리 및 메모리 공정에서 EUV 노광 장비의 수요가 지속적으로 확대되는 가운데, 이와 관련된 EUV 레