남부과학단지 관리국에 1만㎡ 규모 공장용지 활용 제시한 것으로 알려져 TSMC가 최첨단 1㎚ 웨이퍼 생산 공장을 대만에 추가 건설할 계획이다. 22일 연합보 등 대만언론은 소식통을 인용해 TSMC가 서부 자이현 타이바오시의 과학단지를 관할하는 남부과학단지 관리국에 공장용지를 요청했다면서 이같이 보도했다. 해당 소식통은 TSMC가 남부과학단지 관리국에 100㏊(헥타르·1만㎡) 규모의 공장용지 활용을 제시했으며 이 가운데 60㏊에는 1나노 공장, 나머지 40㏊에는 최신 패키징 공장을 건설할 예정이라고 설명했다. 한 업계 관계자는 TSMC의 이번 1나노 공장 건설에 1조 대만달러(약 42조 원) 이상이 투입될 것으로 내다봤다. 그는 이번 건설은 지역적 리스크 분산과 함께 자이 지역의 도시 발전에 도움이 될 것으로 분석했다. 대만 매체에 따르면, TSMC는 앞서 중부 타이중 중부과학단지에 1나노 또는 1.4나노 공장 건설 계획을 진행 중인 것으로 알려졌다. 이와 관련해 TSMC 측은 공장입지 선정에는 고려해야 할 사항이 많다면서 모든 정보는 회사가 발표하는 내용을 토대로 해 달라고 밝혔다. 이어 TSMC는 대만을 주요 생산 기지로 삼을 것이지만 다른 가능성도 배제하
오로스테크놀로지가 MI(계측·검사) 장비사업 영역 확대에 박차를 가하고 있다. 다양한 패키징 공정에 적용할 수 있는 CD(임계 치수) 측정 장비를 개발해 국내외 후공정 업체들과 최종 평가 과정에 돌입했다. CD는 회로 패턴의 선폭을 뜻한다. 웨이퍼에 새겨진 패턴이 수평적으로 얼마나 균일한 폭을 갖고 있는지를 나타내는 척도다. 오버레이는 웨이퍼에 적층된 각 레이어가 수직적으로 얼마나 균일하게 정렬돼있는지를 나타낸다. 두 값 모두 오차가 작을수록 반도체 성능에 문제가 생기지 않는다. 오로스테크놀로지는 패키징 공정에서 CD와 오버레이 등을 측정하는 CD meter 장비를 개발했다. 통상 패키징 공정은 반도체 칩에 따라 다양한 기법이 적용되므로 각각의 특성에 유연하게 대응할 수 있는 MI 시스템이 요구된다. 이 장비는 다양한 이미지 전처리 필터를 통해 노이즈를 줄이고, 측정 신호를 극대화할 수 있는 알고리즘을 적용해 공정 변화에 강한 특성을 갖췄다. 또한, 높은 측정 반복성과 패턴의 엣지를 정확하게 감지하는 알고리즘으로 신뢰성을 높였다. 광학계 변경을 통해 8인치 및 12인치 웨이퍼에 모두 대응이 가능하도록 설계됐으며, WLP, FO-PLP 등 다양한 패키징 공정에