전기 Ni 도금시 첨가제를 이용한 트렌치필링에 따른 구조물 제작
Takafumi OKADA
전기주형법과 포토리소그래피 기술을 접목하면 높은 아스펙트비로 미세한 구조물을 제작할 수 있기 때문에, MEMS 등 복잡한 구조물 제작에 응용할 수 있을 것으로 기대되고 있다.
따라서 Takafumi OKADA외 3명은 「일본실장학회지」 최신호에서 ‘전기 Ni 도금시 첨가제를 이용한 트렌치필링에 따른 구조물 제작’이라는 글을 통해자세히 설명했다.
이를 요약하면 다음과 같다.
전해 Ni 도금에서의 첨가제를 검토해보고, 트렌치의 완전 충전을 시도한 결과 다음과 같은 결과를 얻었다.
1) 기본적인 전해 도금 조건에서, 기본욕으로는 트렌치를 충전할 수 없었다.
2) Glycine과 Saccharin을 가하자 트렌치 내부와 외부에서 막 두께가 균일해졌다. 또한 동일 조건에서 막 두께는 기본욕과 비교했을 때 전체적으로 작아졌다.
3) TU를 이용하면 단독으로 트렌치를 보이드 없이 충전할 수 있었다. 또한 트렌치의 외부 막 두께가 작아 양호한 단면 형상을 얻을 수 있었다.
4) DTAC, ETU 단독으로는 트렌치 내부 중앙에 보이드가 발생했다.
5) TU와 DTAC를 병용하면 트렌치가 충전되어 외부 막 두께가 작아져서 양호한 단면 형상을 얻을 수 있었다. 이 조건에서는 트렌치의 아스펙트비가 커져도 트렌치 내부의 석출 량이 많아 표면 형상도 평탄했다.
6) TU에 PEG를 가하자 보이드 발생이 억제되어 보이드 없이 트렌치를 충전할 수 있었다. 외부 막 두께도 작아 양호한 단면 형상을 얻었다.
7) 전기화학 측정 결과를 통해, 이번 연구에서 이용한 첨가제는 트렌치 외부에서 석출을 억제하자 상대적으로 트렌치 내부에서의 석출 량이 증가해 트렌치가 충전되었을 것으로 보인다.
