고난도 기술과 미래 유망 기술 발굴 및 공동 연구개발 진행 예정

 

오로스테크놀로지가 국내 유수의 광학 연구기관과 손을 잡았다.

 

오로스테크놀로지는 이번 협력을 통해 최첨단 반도체 공정을 위한 순수 국내 계측 기술력을 강화할 계획이다. 오로스테크놀로지는 연세대 공과대학 내 초정밀 광 기계기술 선도연구센터(ERC)와 ‘첨단 나노계측 연구센터’를 설립했다고 밝혔다.

 

 

첨단 나노계측 연구센터는 산학협력을 통해 순수 국내 계측 기술을 발전시키고, 연구 환경을 개선하기 위해 설립됐다. 앞으로 양 기관은 고난도 기술과 미래 유망 기술의 발굴 및 공동 연구개발을 진행할 예정이다.

 

오로스테크놀로지는 국내에서 유일하게 오버레이 계측 시스템을 자체 개발해왔다. 오버레이는 반도체 웨이퍼의 상부층과 하부층의 전자회로 패턴의 위치가 정확하게 정렬되는 지 측정하는 기술이다. ERC는 국내 유수대학의 신진연구자들이 특정 분야를 집중적으로 연구하기 위해 모인 기관이다.

 

지난 11월 24일 연세대 공과대학에서 진행한 협약식에는 이준우 오로스테크놀로지 대표와 명재민 연세대 공과대학 학장, 해당 연구의 중심 역할을 할 강신일 연세대 기계공학과 교수 등이 참석했다.

 

이준우 오로스테크놀로지 대표는 “이번 ERC와의 협력과 미래 성장을 위한 적극적인 투자로 계측장비 시장을 선도해나갈 것”이라며 “현재 오로스테크놀로지는 국내뿐만이 아니라 해외 글로벌 업체로 공급망을 확대하고 있으며, 많은 고객사의 데이터 분석을 통해 기술혁신을 이뤄내고 있다”고 말했다.

 

현재 전 세계 주요 반도체 소자업체와 장비업체들은 공정 개선을 위한 TF를 조직하고 있다. 수율 향상과 빠른 Throughput 등이 반도체 생산성 향상에 직접적으로 영향을 미치기 때문이다. 특히 반도체 공정이 미세화될수록 더 작은 단위의 오차를 측정해낼 수 있는 계측 기술에 대한 필요성도 높아지는 추세다.

 

이에 오로스테크놀로지는 기존 오버레이 기술의 향상은 물론, 새로운 개념의 장비를 적극 개발하고 있다. 오버레이 광학이 아닌 백색광 간섭계(WLI) 기반의 반도체 전공정용 Profiling 장비 등으로 영역을 확장하는 중이다.

 

오로스테크놀로지 담당자는 “국내 순수 기술력으로 해외 경쟁업체를 넘어 고객사가 고민하는 공정혁신에 기여하고자 한다”며 “적극적인 기술협력을 통한 혁신으로 1nm를 더 미세화하기 위한 돌파구를 찾을 수 있도록 하겠다”고 밝혔다. 

 

헬로티 서재창 기자 |