반도체 파티클 제어 전문기업 제덱스가 나노급 초미세 공정에 대응하는 차세대 검사 시스템 ‘M802ESC’를 출시했다. 제덱스는 정전척(ESC), 스퍼터링 타겟, FOUP 등 기존에 정량적 파티클 검사가 어려웠던 공정 핵심 부품까지 분석할 수 있는 장비를 신규 개발했다고 19일 밝혔다.

 

M802ESC는 기존 M2000ESC의 차세대 모델로, 대형·고중량 구조와 높은 표면 정밀도로 인해 기존 방식으로는 평가가 쉽지 않았던 부품을 대상으로 설계됐다. 직경 610mm 이내 시료 대응이 가능하며, 최대 50kg 하중 설계를 적용해 대형 부품 검사 수요를 반영했다.

 

입자 검출 성능도 강화됐다. 기본적으로 0.1µm 이상 입자 검출이 가능하며, 옵션 적용 시 10nm 센서를 통해 극초미세 파티클까지 계수할 수 있다. X·Y·Z 로봇 제어 기반 스캔 노즐 방식을 채택해 표면의 약 90% 영역을 균일하게 검사한다.

 

 

비접촉 방식의 고효율 입자 추출 시스템도 적용했다. 특허 기반 회수 헤드와 입자 확산 방지 구조를 통해 검사 중 2차 오염을 차단했으며, ULPA 필터 기반 Class 1 초청정 환경을 유지해 데이터 신뢰도를 확보했다.

 

제덱스는 M802ESC 출시로 정전척, 스퍼터링 타겟, FOUP 등 공정 핵심 부품의 데이터 기반 정량 평가가 가능해지면서 공정 수율 관리 방식에 변화가 나타날 것으로 기대하고 있다.

 

한편, 제덱스는 2000년 설립 이후 반도체, 디스플레이, 우주항공, 정밀기계 분야에 표면입자계수기와 부품입자평가장치를 공급해 왔다. 수출 비중은 80% 이상이며, 주요 글로벌 기업의 표준 장비로 채택된 제품을 다수 보유하고 있다.

 

헬로티 김재황 기자 |