리소그래피 광학렌즈, 포토마스크, 제조 공정, 반도체 정밀 검사 등 전시

 

자이스 코리아(이하 자이스)가 오는 2월 19일부터 21일까지 서울 코엑스에서 열리는 ‘세미콘 코리아 2025’에 참가한다고 밝혔다. 

 

자이스는 리소그래피 광학렌즈부터 포토마스크, 제조 공정, 반도체 정밀 검사까지 자이스의 다양한 반도체 솔루션을 선보인다. 특히 광화학적 EUV 포토마스크 리뷰 플랫폼인 'ZEISS AIMS EUV'는 자이스가 자랑하는 솔루션이다. 

 

 

이는 EUV AutoAnalysis 소프트웨어 패키지를 통해 이미지를 분석하고 데이터 처리 자동화도 가능하다. 또한, 집중이온빔(FIB)으로 제작한 단층을 SEM(주사전자 현미경) 모듈을 활용해 3차원 이미지로 구현하는 3D Tomography 솔루션도 공유한다. 이 장비는 나노미터 정확도의 반도체 패턴 샘플링, 분석, 측정 및 검증이 가능하여 반도체 미세 공정에 도움을 줄 수 있다. 

 

더불어 고해상도 3D X-ray 솔루션을 기반으로 비파괴 분석을 수행하는 'ZEISS VersaXRM 730', 다양한 분석법에 맞는 효과적인 샘플링을 가능하게 하는 'ZEISS Crossbeam laser', 다양한 샘플 관찰에 용이성을 제공하며 최상의 low KV 성능을 보장해 반도체 소재 및 패키징 분석에 활용 가능한 'ZEISS GeminiSEM' 등도 소개될 예정이다. 반도체 장비 부품 제조에 활용 가능한 산업용 CT 솔루션 'ZEISS METROTOM 1500'과 정밀 계측 3차원 측정기에 대한 정보도 부스에서 확인할 수 있다. 

 

한편, 자이스 코리아 부스에서는 채용 담당자가 상주해 자이스의 글로벌 채용 및 한국의 인재 모집에 대해 소개할 예정이다. 2025년도 자이스 코리아의 채용상담 및 세미콘 행사 후 진행될 ‘ZEISS Open Day’ 참가 신청도 부스에서 이뤄진다. ‘ZEISS Open Day’는 자이스 코리아에서 반도체 인재로 성장하고자 하는 구직자를 위한 현직 엔지니어와의 네트워킹 프로그램이다. 

 

본 전시 참가와 관련해 자이스 코리아 정현석 대표는 “세미콘 코리아 2025에서도 많은 한국 고객이 자이스 솔루션을 확인하길 바란다. 이번 기회를 통해 더 많은 고객과 협력을 늘릴 수 있기를 기대하고 있다. 또한 반도체 인재에게도 좋은 기회가 될 행사니 많은 관심 바란다”고 당부했다. 

 

헬로티 서재창 기자 |