500에이커 규모 론러 에이커스 캠퍼스, 공동 창업자 이름 따 '고든 무어 파크'로 개명
인텔이 11일(미국 현지 시간) 미 오리건주 힐스보로에 위치한 최첨단 반도체 공장 D1X 확장 오프닝 행사를 가졌다고 발표했다.
팻 겔싱어 인텔 CEO는 미국 정부 고위관계자 및 지역사회 관계자가 참석한 리본 커팅식에서 오리건주에 대한 인텔의 긍정적인 영향과 반도체 연구개발 분야에서 미국의 리더십을 확보하기 위한 노력을 거듭 강조했다.
인텔은 또한 약 500에이커 규모의 론러 에이커스 캠퍼스를 ‘고든 무어 파크(Gordon Moore Park)’로 개명했다. 인텔 공동 창업자 고든 무어가 1965년 발표한 ‘무어의 법칙’을 지난 50년 이상 이끌어 온 해당 캠퍼스의 역사와 공로를 기념해 해당 캠퍼스를 개명했다.
팻 겔싱어 인텔 CEO는 “인텔은 창립 이래 무어의 법칙을 끊임없이 발전시키는 데 주력해왔다”며, “새롭게 확장하는 D1X는 인텔의 도전적인 IDM 2.0 전략을 지원하기 위해 더욱 빠르게 공정 로드맵을 제공할 수 있도록 역량을 강화할 것"이라고 밝혔다.
고든 무어 파크는 인텔 글로벌 기술 개발 조직 본부로 무어의 법칙을 발전시키기 위해 신규 트랜지스터 아키텍처, 웨이퍼 공정 및 패키징 기술을 개발, 회사의 제품 로드맵을 뒷받침하고 개인용 컴퓨터, 클라우드 인프라 및 5G 네트워크를 아우르는 애플리케이션의 기반을 제공하는 역할을 수행한다. 고든 무어 파크에는 현재 힐스보로를 중심으로 약 1만여 명의 직원이 근무하고 있으며, 세계 최고 실리콘 공정 엔지니어링 조직 중 하나로 널리 인정받고 있다.
지난 25년 간 오리건 캠퍼스의 엔지니어와 과학자는 컴퓨터 칩 구성요소의 크기가 원자 수준으로 작아짐에 따르는 물리적 한계를 지속적으로 극복해왔다. 인텔은 하이-케이 메탈 게이트 기술, 트라이게이트 3D 트랜지스터 및 스트레인드 실리콘 등의 혁신 기술을 통해 무어의 법칙이 정의한 혁신의 속도에 발맞춰 기초 공정 혁신 기술을 지속적으로 제공해왔다.
앤 켈러허 인텔 수석부사장 겸 기술 개발 부문 총괄은 "미국의 기술 리더십, 경제 그리고 공급망 탄력성의 근간은 바로 반도체"라며 "인텔은 세계에서 유일하게 미국 내 공정 및 패키징 연구개발과 대량의 첨단 반도체 제조 역량을 보유한 기업”이라고 자부했다.
한편 인텔은 작년 자사 역사상 가장 상세한 공정 기술 로드맵 중 하나를 공개했다. 인텔은 2025년 이후까지 새로운 제품에 활용될 획기적인 기술을 통해 매년 혁신을 가속하고 제품 개발을 위해 아래와 같은 노력을 견지하고 있다.
헬로티 이동재 기자 |
